偏离标准条件的OPC模型以及OPC相关的验证方法
文献类型：学位论文
| 作者 | 陆梅君 |
| 学位类别 | 博士 |
| 答辩日期 | 2006 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所） |
| 导师 | 邹世昌 ; 梁强 |
| 关键词 | 光学邻近效应修正 偏离标准条件 制程窗口 光刻规则检查 设计规则 |
| 学位专业 | 微电子学与固体电子学 |
| 中文摘要 | 光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction，OPC)已成为半导体制造不可缺少的技术，同时发展为电子设计自动化(Electronic Design Automation，EDA)框架中的重要组成部分。OPC原先主要用来提高图像的解析度和图形的还原能力，现在也用在可制造性设计(Design for Manufacturability，DFM)中优化布局以提高芯片的良率。本论文目的在于提高基于模型的OPC(Model-based OPC，MOPC)的准确性以及完善OPC相关的验证 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/83406]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陆梅君 . 偏离标准条件的OPC模型以及OPC相关的验证方法[D]. 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所） . 2006. |
入库方式： OAI收割
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