CVD金刚石薄膜的制备、性能及其应用基础研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 毛敏耀 |
| 学位类别 | 博士 |
| 答辩日期 | 1991 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院（上海冶金研究所） |
| 导师 | 王渭源 |
| 关键词 | C取向 超导外延膜 氧扩散行为 脱氧过程 |
| 学位专业 | 半导体物理与半导体器件物理 |
| 中文摘要 | 该文主要通过直流原位电阻法进行了C取向超导外延膜中氧扩散行为和进脱氧过程的研究,并基于SIMS实验结果进行了氧的螺旋扩散行为的理论计算. |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-12 |
| 页码 | 98 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/84458]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 毛敏耀. CVD金刚石薄膜的制备、性能及其应用基础研究[D]. 中国科学院研究生院（上海冶金研究所） . 1991. |
入库方式： OAI收割
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