N+离子注入SOI材料的性能研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 张顺开 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 1990-05-01 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院（上海冶金研究所） |
| 导师 | 林成鲁 邹世昌 |
| 学位专业 | 半导体物理与半导体器件物理 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-06 |
| 页码 | 93 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/84227]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文（200年以前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张顺开. N+离子注入SOI材料的性能研究[D]. 中国科学院研究生院（上海冶金研究所） . 1990. |
入库方式： OAI收割
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