反应离子深刻蚀的模型模拟与深刻蚀的工艺研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 姜建东 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 1993-03-01 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院（上海冶金研究所） |
| 导师 | 王德宇 王渭源 |
| 关键词 | 反应离子深刻蚀 模型模拟 深刻蚀硅 工艺 |
| 学位专业 | 半导体物理与半导体器件物理 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-06 |
| 页码 | 68 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/84309]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文（200年以前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 姜建东. 反应离子深刻蚀的模型模拟与深刻蚀的工艺研究[D]. 中国科学院研究生院（上海冶金研究所） . 1993. |
入库方式： OAI收割
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