THE EVIDENCE FOR INTERACTION OF THE N-N PAIR WITH OXYGEN IN CZOCHRALSKI SILICON
文献类型：期刊论文
| 作者 | QI, MW ; TAN, SS ; ZHU, B ; CAI, PX ; GU, WF ; XU, XM ; SHI, TS ; QUE, DL ; LI, LB |
| 刊名 | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
 |
| 出版日期 | 1991 |
| 卷号 | 69期号:6页码:3775-3777 |
| 关键词 | NITROGEN |
| ISSN号 | 0021-8979 |
| 通讯作者 | QI, MW, CHINESE ACAD SCI,SHANGHAI INST MET,SHANGHAI,PEOPLES R CHINA |
| 学科主题 | Physics, Applied |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2012-03-25 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/98358]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文（1999年以前) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | QI, MW,TAN, SS,ZHU, B,et al. THE EVIDENCE FOR INTERACTION OF THE N-N PAIR WITH OXYGEN IN CZOCHRALSKI SILICON[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,1991,69(6):3775-3777. |
| APA | QI, MW.,TAN, SS.,ZHU, B.,CAI, PX.,GU, WF.,...&LI, LB.(1991).THE EVIDENCE FOR INTERACTION OF THE N-N PAIR WITH OXYGEN IN CZOCHRALSKI SILICON.JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,69(6),3775-3777. |
| MLA | QI, MW,et al."THE EVIDENCE FOR INTERACTION OF THE N-N PAIR WITH OXYGEN IN CZOCHRALSKI SILICON".JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 69.6(1991):3775-3777. |
入库方式： OAI收割
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