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ANOMALOUS DAMAGE BEHAVIOR OF BF2+ IMPLANTATION IN SILICON

文献类型:期刊论文

作者LIN, CL ; ZHOU, ZY ; LI, XQ ; Zou, SC(邹世昌) ; HEMMENT, PLF
刊名SECOND INTERNATIONAL CONFERENCE ON THIN FILM PHYSICS AND APPLICATIONS
出版日期1994
卷号2364页码:137-141
学科主题Optics
收录类别SCI
原文出处http://apps.webofknowledge.com/full_record.do?product=UA&search_mode=GeneralSearch&qid=159&SID=Q17j6Ejh3Mi@ML3HG1p&page=1&doc=1
语种英语
公开日期2012-03-25
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/98555]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文(1999年以前)
推荐引用方式
GB/T 7714
LIN, CL,ZHOU, ZY,LI, XQ,et al. ANOMALOUS DAMAGE BEHAVIOR OF BF2+ IMPLANTATION IN SILICON[J]. SECOND INTERNATIONAL CONFERENCE ON THIN FILM PHYSICS AND APPLICATIONS,1994,2364:137-141.
APA LIN, CL,ZHOU, ZY,LI, XQ,Zou, SC,&HEMMENT, PLF.(1994).ANOMALOUS DAMAGE BEHAVIOR OF BF2+ IMPLANTATION IN SILICON.SECOND INTERNATIONAL CONFERENCE ON THIN FILM PHYSICS AND APPLICATIONS,2364,137-141.
MLA LIN, CL,et al."ANOMALOUS DAMAGE BEHAVIOR OF BF2+ IMPLANTATION IN SILICON".SECOND INTERNATIONAL CONFERENCE ON THIN FILM PHYSICS AND APPLICATIONS 2364(1994):137-141.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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