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GROWTH-KINETICS OF GASB BY METALORGANIC VAPOR-PHASE EPITAXY

文献类型:期刊论文

作者WEI, GY ; PENG, RW
刊名JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS
出版日期1994
卷号23期号:2页码:217-220
关键词GALLIUM ANTIMONIDE MOVPE
ISSN号0361-5235
通讯作者WEI, GY, CHINESE ACAD SCI,SHANGHAI INST MET,SHANGHAI 200050,PEOPLES R CHINA
学科主题Engineering, Electrical & Electronic; Materials Science, Multidisciplinary; Physics, Applied
收录类别SCI
语种英语
公开日期2012-03-25
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/98567]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文(1999年以前)
推荐引用方式
GB/T 7714
WEI, GY,PENG, RW. GROWTH-KINETICS OF GASB BY METALORGANIC VAPOR-PHASE EPITAXY[J]. JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS,1994,23(2):217-220.
APA WEI, GY,&PENG, RW.(1994).GROWTH-KINETICS OF GASB BY METALORGANIC VAPOR-PHASE EPITAXY.JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS,23(2),217-220.
MLA WEI, GY,et al."GROWTH-KINETICS OF GASB BY METALORGANIC VAPOR-PHASE EPITAXY".JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS 23.2(1994):217-220.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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