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ION-BEAM SYNTHESIS OF TERNARY PHASE COFE-SILICIDE IN (111)SILICON

文献类型:期刊论文

作者TAVARES, J ; BENDER, H ; WU, MF ; VANTOMME, A ; LANGOUCHE, G ; LIN, C
刊名APPLIED PHYSICS LETTERS
出版日期1995
卷号67期号:7页码:986-988
关键词IMPLANTATION LAYERS
ISSN号0003-6951
通讯作者TAVARES, J, IMEC,KAPELDREEF 75,B-3001 LOUVAIN,BELGIUM
学科主题Physics, Applied
收录类别SCI
语种英语
公开日期2012-03-25
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/98591]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文(1999年以前)
推荐引用方式
GB/T 7714
TAVARES, J,BENDER, H,WU, MF,et al. ION-BEAM SYNTHESIS OF TERNARY PHASE COFE-SILICIDE IN (111)SILICON[J]. APPLIED PHYSICS LETTERS,1995,67(7):986-988.
APA TAVARES, J,BENDER, H,WU, MF,VANTOMME, A,LANGOUCHE, G,&LIN, C.(1995).ION-BEAM SYNTHESIS OF TERNARY PHASE COFE-SILICIDE IN (111)SILICON.APPLIED PHYSICS LETTERS,67(7),986-988.
MLA TAVARES, J,et al."ION-BEAM SYNTHESIS OF TERNARY PHASE COFE-SILICIDE IN (111)SILICON".APPLIED PHYSICS LETTERS 67.7(1995):986-988.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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