ION-BEAM SYNTHESIS OF TERNARY PHASE COFE-SILICIDE IN (111)SILICON
文献类型:期刊论文
作者 | TAVARES, J ; BENDER, H ; WU, MF ; VANTOMME, A ; LANGOUCHE, G ; LIN, C |
刊名 | APPLIED PHYSICS LETTERS
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出版日期 | 1995 |
卷号 | 67期号:7页码:986-988 |
关键词 | IMPLANTATION LAYERS |
ISSN号 | 0003-6951 |
通讯作者 | TAVARES, J, IMEC,KAPELDREEF 75,B-3001 LOUVAIN,BELGIUM |
学科主题 | Physics, Applied |
收录类别 | SCI |
语种 | 英语 |
公开日期 | 2012-03-25 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/98591] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文(1999年以前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | TAVARES, J,BENDER, H,WU, MF,et al. ION-BEAM SYNTHESIS OF TERNARY PHASE COFE-SILICIDE IN (111)SILICON[J]. APPLIED PHYSICS LETTERS,1995,67(7):986-988. |
APA | TAVARES, J,BENDER, H,WU, MF,VANTOMME, A,LANGOUCHE, G,&LIN, C.(1995).ION-BEAM SYNTHESIS OF TERNARY PHASE COFE-SILICIDE IN (111)SILICON.APPLIED PHYSICS LETTERS,67(7),986-988. |
MLA | TAVARES, J,et al."ION-BEAM SYNTHESIS OF TERNARY PHASE COFE-SILICIDE IN (111)SILICON".APPLIED PHYSICS LETTERS 67.7(1995):986-988. |
入库方式: OAI收割
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