The effects of fluorine ion implantation on the formation of SIMOX structure
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhu, SY ; Lin, CL |
| 刊名 | THIN SOLID FILMS
 |
| 出版日期 | 1997 |
| 卷号 | 298期号:1-2页码:147-150 |
| 关键词 | BURIED OXIDES SILICON TRANSPORT SI |
| ISSN号 | 0040-6090 |
| 通讯作者 | Zhu, SY, CHINESE ACAD SCI,SHANGHAI INST MET,STATE KEY LAB FUNCT MAT INFORMAT,SHANGHAI 200050,PEOPLES R CHINA |
| 学科主题 | Materials Science, Multidisciplinary; Materials Science, Coatings & Films; Physics, Applied; Physics, Condensed Matter |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2012-03-25 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/98886]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文（1999年以前) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhu, SY,Lin, CL. The effects of fluorine ion implantation on the formation of SIMOX structure[J]. THIN SOLID FILMS,1997,298(1-2):147-150. |
| APA | Zhu, SY,&Lin, CL.(1997).The effects of fluorine ion implantation on the formation of SIMOX structure.THIN SOLID FILMS,298(1-2),147-150. |
| MLA | Zhu, SY,et al."The effects of fluorine ion implantation on the formation of SIMOX structure".THIN SOLID FILMS 298.1-2(1997):147-150. |
入库方式： OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。