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Total dose radiation effects on SOINMOS transistors with different layouts

文献类型:期刊论文

作者Tian, H ; Zhang, ZX ; He, W ; Yu, WJ ; Wang, R ; Chen, M
刊名CHINESE PHYSICS C
出版日期2008
卷号32期号:8页码:645-648
关键词BURIED OXIDES BIAS
ISSN号1674-1137
通讯作者Tian, H, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol, Shanghai 200050, Peoples R China
学科主题Physics, Nuclear; Physics, Particles & Fields
收录类别SCI
语种英语
公开日期2012-03-24
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/95017]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Tian, H,Zhang, ZX,He, W,et al. Total dose radiation effects on SOINMOS transistors with different layouts[J]. CHINESE PHYSICS C,2008,32(8):645-648.
APA Tian, H,Zhang, ZX,He, W,Yu, WJ,Wang, R,&Chen, M.(2008).Total dose radiation effects on SOINMOS transistors with different layouts.CHINESE PHYSICS C,32(8),645-648.
MLA Tian, H,et al."Total dose radiation effects on SOINMOS transistors with different layouts".CHINESE PHYSICS C 32.8(2008):645-648.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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