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Growth of high-quality thick GaN using a tungsten interlayer

文献类型:期刊论文

作者Wang, XZ ; Yu, GH ; Lei, BL ; Lin, CT ; Wang, XL ; Qi, M ; Li, AZ ; Nouet, G ; Ruterana, P ; Chen, J
刊名RARE METALS
出版日期2006
卷号25页码:11-14
关键词VAPOR-PHASE EPITAXY PENDEO-EPITAXY LATERAL GROWTH FILMS SAPPHIRE LAYERS OVERGROWTH
ISSN号1001-0521
通讯作者Yu, GH, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Microsyst & Informat, Shanghai 200050, Peoples R China
学科主题Materials Science, Multidisciplinary; Metallurgy & Metallurgical Engineering
收录类别SCI
原文出处http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1001052108600431
语种英语
公开日期2012-03-24
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/95213]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Wang, XZ,Yu, GH,Lei, BL,et al. Growth of high-quality thick GaN using a tungsten interlayer[J]. RARE METALS,2006,25:11-14.
APA Wang, XZ.,Yu, GH.,Lei, BL.,Lin, CT.,Wang, XL.,...&Chen, J.(2006).Growth of high-quality thick GaN using a tungsten interlayer.RARE METALS,25,11-14.
MLA Wang, XZ,et al."Growth of high-quality thick GaN using a tungsten interlayer".RARE METALS 25(2006):11-14.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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