Integrated SOI rib waveguide using inductively coupled plasma reactive ion etching
文献类型：期刊论文
| 作者 | Wang, YJ ; Lin, ZL ; Zhang, CS ; Gao, F ; Zhang, F |
| 刊名 | IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 11期号:1页码:254-259 |
| 关键词 | HFO2 THIN-FILMS OPTICAL-FIBERS SI ALIGNMENT |
| ISSN号 | 1077-260X |
| 通讯作者 | Wang, YJ, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol, Ion Beam Lab, Shanghai 200050, Peoples R China |
| 学科主题 | Engineering, Electrical & Electronic; Optics; Physics, Applied |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2012-03-24 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/95303]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wang, YJ,Lin, ZL,Zhang, CS,et al. Integrated SOI rib waveguide using inductively coupled plasma reactive ion etching[J]. IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS,2005,11(1):254-259. |
| APA | Wang, YJ,Lin, ZL,Zhang, CS,Gao, F,&Zhang, F.(2005).Integrated SOI rib waveguide using inductively coupled plasma reactive ion etching.IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS,11(1),254-259. |
| MLA | Wang, YJ,et al."Integrated SOI rib waveguide using inductively coupled plasma reactive ion etching".IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS 11.1(2005):254-259. |
入库方式： OAI收割
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