Spectroscopic ellipsometry chraracterization of the interfacial roughness in simox wafers
文献类型：期刊论文
| 作者 | Li,WJ ; Song,ZR ; Tao,K ; Cheng,XH ; Yang,WW ; Yu,YH ; Wang,X ; Zou,SC ; Shen,DS |
| 刊名 | THIN SOLID FILMS
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| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 459期号:1-2页码:63-66 |
| 关键词 | ATOMIC-FORCE MICROSCOPY SURFACES |
| ISSN号 | 0040-6090 |
| 通讯作者 | Yu, YH, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol, Ion Beam Lab, Shanghai 200050, Peoples R China |
| 学科主题 | Materials Science ; Multidisciplinary; Materials Science ; Coatings & Films; Physics ; Applied; Physics ; Condensed Matter |
| 收录类别 | SCI |
| 公开日期 | 2012-03-24 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/95378]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Li,WJ,Song,ZR,Tao,K,et al. Spectroscopic ellipsometry chraracterization of the interfacial roughness in simox wafers[J]. THIN SOLID FILMS,2004,459(1-2):63-66. |
| APA | Li,WJ.,Song,ZR.,Tao,K.,Cheng,XH.,Yang,WW.,...&Shen,DS.(2004).Spectroscopic ellipsometry chraracterization of the interfacial roughness in simox wafers.THIN SOLID FILMS,459(1-2),63-66. |
| MLA | Li,WJ,et al."Spectroscopic ellipsometry chraracterization of the interfacial roughness in simox wafers".THIN SOLID FILMS 459.1-2(2004):63-66. |
入库方式： OAI收割
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