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Fabrication of silicon-on-insulator-multilayer structure by epitaxial layer transfer

文献类型:期刊论文

作者Xie, XY ; Lin, Q ; Men, CL ; Liu, WL ; Xu, AH ; Lin, CL
刊名ACTA PHYSICA SINICA
出版日期2003
卷号52期号:1页码:207-210
ISSN号1000-3290
通讯作者Xie, XY, Chinese Acad Sci, State Key Lab Funct Mat & Informat, Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol, Shanghai 200050, Peoples R China
学科主题Physics, Multidisciplinary
收录类别SCI
语种中文
公开日期2012-03-24
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/95510]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Xie, XY,Lin, Q,Men, CL,et al. Fabrication of silicon-on-insulator-multilayer structure by epitaxial layer transfer[J]. ACTA PHYSICA SINICA,2003,52(1):207-210.
APA Xie, XY,Lin, Q,Men, CL,Liu, WL,Xu, AH,&Lin, CL.(2003).Fabrication of silicon-on-insulator-multilayer structure by epitaxial layer transfer.ACTA PHYSICA SINICA,52(1),207-210.
MLA Xie, XY,et al."Fabrication of silicon-on-insulator-multilayer structure by epitaxial layer transfer".ACTA PHYSICA SINICA 52.1(2003):207-210.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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