Non-Rutherford backscattering studies of SiC/SIMOX structures
文献类型：期刊论文
| 作者 | Chen,KW ; Yu,YH ; Lei,YM ; Cheng,LL ; Sundaraval,B ; Luo,EZ ; Wong,SP ; Wilson,IH ; Chen,LZ ; Ren,CX ; Zou,SC |
| 刊名 | APPLIED SURFACE SCIENCE
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 卷号 | 184期号:1-4页码:178-182 |
| ISSN号 | 0169-4332 |
| 关键词 | H FILMS |
| 通讯作者 | Yu, YH, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Met, Ion Beam Lab, 865 Changning Rd, Shanghai 200050, Peoples R China |
| 学科主题 | Chemistry ; Physical; Materials Science ; Coatings & Films; Physics ; Applied; Physics ; Condensed Matter |
| 收录类别 | SCI |
| 公开日期 | 2012-03-24 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/95716]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Chen,KW,Yu,YH,Lei,YM,et al. Non-Rutherford backscattering studies of SiC/SIMOX structures[J]. APPLIED SURFACE SCIENCE,2001,184(1-4):178-182. |
| APA | Chen,KW.,Yu,YH.,Lei,YM.,Cheng,LL.,Sundaraval,B.,...&Zou,SC.(2001).Non-Rutherford backscattering studies of SiC/SIMOX structures.APPLIED SURFACE SCIENCE,184(1-4),178-182. |
| MLA | Chen,KW,et al."Non-Rutherford backscattering studies of SiC/SIMOX structures".APPLIED SURFACE SCIENCE 184.1-4(2001):178-182. |
入库方式： OAI收割
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