斜蒸镀Ni-Co薄膜磁性能的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 沈德芳 ; 姜兰英 ; 何德跃 ; 封敬璋 |
| 刊名 | 仪表材料
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| 出版日期 | 1985 |
| 期号 | 02 |
| ISSN号 | 1001-9731 |
| 中文摘要 | 本文讨论斜蒸镀Ni—Co薄膜经氧化后矫顽力提高的机理。实验说明薄膜氧化后氧原子可能进入晶格,使薄膜晶格产生畸变,应力增加,从而导致矫顽力增大。在氧气氛中斜蒸镀Ni—Co薄膜应有同样的效应。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/103625]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 沈德芳,姜兰英,何德跃,等. 斜蒸镀Ni-Co薄膜磁性能的研究[J]. 仪表材料,1985(02). |
| APA | 沈德芳,姜兰英,何德跃,&封敬璋.(1985).斜蒸镀Ni-Co薄膜磁性能的研究.仪表材料(02). |
| MLA | 沈德芳,et al."斜蒸镀Ni-Co薄膜磁性能的研究".仪表材料 .02(1985). |
入库方式： OAI收割
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