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(n)nc-Si:H/(p)c-Si异质结中载流子输运性质的研究

文献类型:期刊论文

作者彭英才 ; 徐刚毅 ; 何宇亮 ; 刘明 ; 李月霞
刊名物理学报
出版日期2000
期号12
ISSN号1000-3290
中文摘要采用常规等离子体增强化学气相沉积工艺 ,以高H2 稀释的SiH4 作为反应气体源和PH3 作为磷原子的掺杂剂 ,在 p型 ( 10 0 )单晶硅 ( (p)c -Si)衬底上 ,成功地生长了施主掺杂型纳米硅膜 ( (n)nc Si:H) ,进而制备了 (n)nc Si:H/ ( p)c Si异质结 ,并在 2 30— 42 0K温度范围内实验研究了该异质结的I V特性 .结果表明 ,(n)nc Si:H/ ( p)c Si异质结为一典型的突变异质结构 ,具有良好的温度稳定性和整流特性 .正向偏压下 ,该异
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/103650]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
彭英才,徐刚毅,何宇亮,等. (n)nc-Si:H/(p)c-Si异质结中载流子输运性质的研究[J]. 物理学报,2000(12).
APA 彭英才,徐刚毅,何宇亮,刘明,&李月霞.(2000).(n)nc-Si:H/(p)c-Si异质结中载流子输运性质的研究.物理学报(12).
MLA 彭英才,et al."(n)nc-Si:H/(p)c-Si异质结中载流子输运性质的研究".物理学报 .12(2000).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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