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AI/GaAs界面微结构的慢正电子束研究

文献类型:期刊论文

作者翁惠民 ; 周先意 ; 徐纪华 ; 孙式军 ; 朱警生 ; 武淑兰 ; 韩荣典
刊名高能物理与核物理
出版日期1993
期号09
ISSN号0254-3052
中文摘要基于正电子扩散方程,对于线形全吸收型等特殊的界面模型,求得了正电子湮没辐射多普勒展宽S参数与单能慢正电子入射能量E之间函数关系S(E)的解析表达式。测量不同膜厚、不同退火条件下Al/GaAs的S(E),用所得解析式拟合实验数据,发现Al/GaAs界面系统与线形全吸收型界面模型符合得很好。通过拟合,得出了界面S参数S_1及其与膜厚和退火温度的关系,由此对界面微结构及其动力学特性作了讨论。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/103724]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
翁惠民,周先意,徐纪华,等. AI/GaAs界面微结构的慢正电子束研究[J]. 高能物理与核物理,1993(09).
APA 翁惠民.,周先意.,徐纪华.,孙式军.,朱警生.,...&韩荣典.(1993).AI/GaAs界面微结构的慢正电子束研究.高能物理与核物理(09).
MLA 翁惠民,et al."AI/GaAs界面微结构的慢正电子束研究".高能物理与核物理 .09(1993).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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