As在Co/Ti/Si三元固相反应中的分凝效应
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘平 ; 周祖尧 ; 林成鲁 ; 邹世昌 ; 李炳宗 ; 孙臻 |
| 刊名 | 物理学报
 |
| 出版日期 | 1993 |
| 期号 | 11 |
| ISSN号 | 1000-3290 |
| 中文摘要 | 在注入As的Si表面上,采用离子束溅射淀积Co/Ti双层金属膜。在氮气氛下对 Co/Ti/Si进行多步热处理,研究As原子在Co/Ti/Si三元固相反应过程中的行为。实验采用背散射技术测量As原子在反应各阶段中的分布。结果表明,随着反应形成TiN(O)/Co-Ti-Si/CoSi_2/Si多层薄膜结构,一部分Si衬底中的As原子被分凝出来,向表面运动,并聚集在Co-Ti-Si三元硅化物中。对As原子的这一再分布行为进行了讨论。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/103765]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘平,周祖尧,林成鲁,等. As在Co/Ti/Si三元固相反应中的分凝效应[J]. 物理学报,1993(11). |
| APA | 刘平,周祖尧,林成鲁,邹世昌,李炳宗,&孙臻.(1993).As在Co/Ti/Si三元固相反应中的分凝效应.物理学报(11). |
| MLA | 刘平,et al."As在Co/Ti/Si三元固相反应中的分凝效应".物理学报 .11(1993). |
入库方式： OAI收割
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