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Cd和Zn在InP中扩散的研究

文献类型:期刊论文

作者逄永秀 ; 孙炳玉
刊名电子科学学刊
出版日期1985
期号04
ISSN号1009-5896
中文摘要本文介绍了在450—700℃的广阔温度范围内研究Cd和Zn向InP扩散的结果,并对结果作了比较。详细研究了Cd,Zn及其化合物等不同杂质源对扩散的影响。我们用结深(x_j)的平方和时间(t)的比值(x_j~2/t)作为扩散速度的度量,并画出了x_j~2/t-1/T(温度)曲线。发现Cd源,特别是CdP_2源的扩散速度较慢,容易控制它扩散的结深和浓度,昕以它是比较理想的扩散杂质源。利用Tien的中性复合体理论,解释了Cd和Zn在InP中扩散的复杂现象。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/103806]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
逄永秀,孙炳玉. Cd和Zn在InP中扩散的研究[J]. 电子科学学刊,1985(04).
APA 逄永秀,&孙炳玉.(1985).Cd和Zn在InP中扩散的研究.电子科学学刊(04).
MLA 逄永秀,et al."Cd和Zn在InP中扩散的研究".电子科学学刊 .04(1985).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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