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GaAs衬底深能级EL_2与电路旁栅效应的光敏特征和迟滞现象

文献类型:期刊论文

作者宁珺 ; 丁勇 ; 毛友德 ; 夏冠群 ; 赵福川 ; 赵建龙
刊名微电子技术
出版日期2000
期号02
关键词K1 旁栅效应 光敏特征 迟滞现象 深能级
ISSN号1008-0147
其他题名T1 GaAs衬底深能级EL_2与电路旁栅效应的光敏特征和迟滞现象
中文摘要旁栅效应是制约GaAs集成电路性能和集成度的有害寄生效应。本文研究了MESFET电路的旁栅效应的光敏特性和迟滞现象 ,认为这两个现象可能与衬底深能级 (如EL2 )有密切的关系 ,通过减小衬底杂质补偿度有可能减轻旁栅效应影响。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/103918]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
宁珺,丁勇,毛友德,等. GaAs衬底深能级EL_2与电路旁栅效应的光敏特征和迟滞现象[J]. 微电子技术,2000(02).
APA 宁珺,丁勇,毛友德,夏冠群,赵福川,&赵建龙.(2000).GaAs衬底深能级EL_2与电路旁栅效应的光敏特征和迟滞现象.微电子技术(02).
MLA 宁珺,et al."GaAs衬底深能级EL_2与电路旁栅效应的光敏特征和迟滞现象".微电子技术 .02(2000).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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