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GaAs中子嬗变掺杂的初步研究

文献类型:期刊论文

作者莫培根 ; 李寿春 ; 李跃鑫 ; 高集金 ; 李石岭
刊名半导体学报
出版日期1984
期号05
ISSN号0253-4177
中文摘要采用未掺杂的GaAs晶体进行了中子嬗变掺杂试验.热退火处理能有效地消除辐照引入的晶格损伤.辐照后的晶体经800℃在氢气气氛下处理2.5小时,掺杂浓度与预期掺杂量接近.采用电化学C-V法测定掺杂均匀性,结果表明掺杂浓度的相对标准偏差小于5%.
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/103941]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
莫培根,李寿春,李跃鑫,等. GaAs中子嬗变掺杂的初步研究[J]. 半导体学报,1984(05).
APA 莫培根,李寿春,李跃鑫,高集金,&李石岭.(1984).GaAs中子嬗变掺杂的初步研究.半导体学报(05).
MLA 莫培根,et al."GaAs中子嬗变掺杂的初步研究".半导体学报 .05(1984).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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