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MOCVD法生长Ga_(l-X)In_xAs_(l-y)Sb_y的物化研究

文献类型:期刊论文

作者韦光宇 ; 彭瑞伍 ; 任尧成 ; 丁永庆
刊名稀有金属
出版日期1992
期号06
ISSN号0258-7076
中文摘要为更好地控制MOCVD Ⅲ-Ⅴ族锑化物的生长,改进外延层性质,本文用物理化学方法研究了Ga_(1-x)In_xAs_(1-y)Sb_y合金的生长过程。用热力学的“平衡模型”计算了铟和锑的分配系数及外延层固相组成与生长条件的关系,用化学动力学方法推导了当外延过程为物质扩散控制、化学反应控制及混合控制时的外延层生长速率公式,结果均符合实验规律。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104098]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
韦光宇,彭瑞伍,任尧成,等. MOCVD法生长Ga_(l-X)In_xAs_(l-y)Sb_y的物化研究[J]. 稀有金属,1992(06).
APA 韦光宇,彭瑞伍,任尧成,&丁永庆.(1992).MOCVD法生长Ga_(l-X)In_xAs_(l-y)Sb_y的物化研究.稀有金属(06).
MLA 韦光宇,et al."MOCVD法生长Ga_(l-X)In_xAs_(l-y)Sb_y的物化研究".稀有金属 .06(1992).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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