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MOCVD源物质Ti(OC_4H_9)_4的重复性研究

文献类型:期刊论文

作者孙一军 ; 夏冠群 ; 张良莹 ; 姚熹
刊名半导体学报
出版日期1999
期号04
ISSN号0253-4177
中文摘要本文讨论了MOCVD源物质Ti(OC4H9)4的重复性.首次实验发现了Ti(OC4H9)4的重复性问题.研究结果表明,热学性质的变化是Ti(OC4H9)4的重复性发生变化的根本原因.
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104112]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
孙一军,夏冠群,张良莹,等. MOCVD源物质Ti(OC_4H_9)_4的重复性研究[J]. 半导体学报,1999(04).
APA 孙一军,夏冠群,张良莹,&姚熹.(1999).MOCVD源物质Ti(OC_4H_9)_4的重复性研究.半导体学报(04).
MLA 孙一军,et al."MOCVD源物质Ti(OC_4H_9)_4的重复性研究".半导体学报 .04(1999).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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