NiO/NiFe双层膜的制备及其交换耦合作用研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 卢志红 ; 邱进军 ; 荀坤 ; 吴丹丹 ; 姚新华 ; 熊锐 ; 周健 ; 李佐宜 ; 沈德芳 |
| 刊名 | 功能材料与器件学报
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| 出版日期 | 1998 |
| 期号 | 04 |
| ISSN号 | 1007-4252 |
| 中文摘要 | 用直流磁控反应溅射制备ＮｉＯ／ＮｉＦｅ双层膜。在保持ＮｉＦｅ层的厚度２０ｎｍ不变的条件下，发现尽管没有用外加磁场引导单向各向异性，由于底盘旋转等因素的影响，ＮｉＯ（７０ｎｍ）／ＮｉＦｅ（２０ｎｍ）双层结构仍显示较好的单向各向异性，交换耦合场可达３０Ｏｅ以上。通过改变ＮｉＯ层的厚度、溅射气体Ａｒ分压以及溅射气体与反应气体的比例Ａｒ／Ｏ２，研究了反铁磁层厚度以及溅射条件对交换耦合场的影响。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104161]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 卢志红,邱进军,荀坤,等. NiO/NiFe双层膜的制备及其交换耦合作用研究[J]. 功能材料与器件学报,1998(04). |
| APA | 卢志红.,邱进军.,荀坤.,吴丹丹.,姚新华.,...&沈德芳.(1998).NiO/NiFe双层膜的制备及其交换耦合作用研究.功能材料与器件学报(04). |
| MLA | 卢志红,et al."NiO/NiFe双层膜的制备及其交换耦合作用研究".功能材料与器件学报 .04(1998). |
入库方式： OAI收割
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