XH－REP－2正性电子束抗蚀剂的工艺研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王国荃 ; 罗腾蛟 ; 王琴美 ; 吴月莉 |
| 刊名 | 应用科学学报
 |
| 出版日期 | 1994 |
| 期号 | 01 |
| ISSN号 | 02558297 |
| 中文摘要 | ＸＨ－ＲＥＰ－２正性电子束抗蚀剂的工艺研究王国荃，罗腾蛟，王琴美，吴月莉（中国科学院上海冶金研究所）关键词：电子束曝光，等离子体去渣．０引言普通光学的曝光分辨率受到光波衍射效应的限制，难以制作１μｍ以下的图形；当ＰＧ图形分割的矩形数超过２０万，普通光... |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104333]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王国荃,罗腾蛟,王琴美,等. XH－REP－2正性电子束抗蚀剂的工艺研究[J]. 应用科学学报,1994(01). |
| APA | 王国荃,罗腾蛟,王琴美,&吴月莉.(1994).XH－REP－2正性电子束抗蚀剂的工艺研究.应用科学学报(01). |
| MLA | 王国荃,et al."XH－REP－2正性电子束抗蚀剂的工艺研究".应用科学学报 .01(1994). |
入库方式： OAI收割
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