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Zn在InP中低温扩散的研究

文献类型:期刊论文

作者张桂成 ; 徐少华 ; 水海龙
刊名电子科学学刊
出版日期1983
期号02
ISSN号1009-5896
中文摘要本文用Zn_3P_2源在闭管条件下研究了Zn在InP中的低温(520—700℃)扩散。比较了用“等温”扩散和“双温区”扩散技术扩散后,样品的电学参数。结果表明:“双温区”扩散法可得到表面光亮,无损伤的高浓度表面层。该法已用于InGaAsP/InP双异质结发光管的制备工艺中,并制得了光功率≥1mW,串联电阻2—3Ω的发光管。还讨论了Zn在InP中扩散时的行为,解释了低温(550℃)扩散过程中,等温扩散时出现的异常现象。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104379]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
张桂成,徐少华,水海龙. Zn在InP中低温扩散的研究[J]. 电子科学学刊,1983(02).
APA 张桂成,徐少华,&水海龙.(1983).Zn在InP中低温扩散的研究.电子科学学刊(02).
MLA 张桂成,et al."Zn在InP中低温扩散的研究".电子科学学刊 .02(1983).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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