半熔融烧结靶直流磁控溅射外延生长YBCO超导薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 任琮欣 ; 陈国樑 ; 李贻杰 ; 陈建民 ; 杨絜 ; 张骥华 ; 陈业新 ; 陈正秀 ; 汪乐 ; 邹世昌 |
| 刊名 | 低温物理学报
 |
| 出版日期 | 1992 |
| 期号 | 01 |
| ISSN号 | 1000-3258 |
| 中文摘要 | 直流磁控溅射使用半熔融大直径平面烧结靶,在(100)SrTiO_3衬底上原位生长 YBa_2Cu_3·O_(7-δ)超导薄膜,可以很方便地和重复地获得临界电流密度高(J_c=3.4×10~6A/cm~2在77KB=0时)、微波表面电阻 R_s 较低(在77K,50.9GHz 时,R_s≤37mΩ)和均匀区较大的超导薄膜.X 光衍射,X 光双晶衍射摇摆曲线测量和透射电子显微镜分析结果表明,所得的 YBCO 薄膜为高度 c 取向的单晶外延膜. |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104440]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 任琮欣,陈国樑,李贻杰,等. 半熔融烧结靶直流磁控溅射外延生长YBCO超导薄膜[J]. 低温物理学报,1992(01). |
| APA | 任琮欣.,陈国樑.,李贻杰.,陈建民.,杨絜.,...&邹世昌.(1992).半熔融烧结靶直流磁控溅射外延生长YBCO超导薄膜.低温物理学报(01). |
| MLA | 任琮欣,et al."半熔融烧结靶直流磁控溅射外延生长YBCO超导薄膜".低温物理学报 .01(1992). |
入库方式： OAI收割
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