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铂薄膜中氧和碳的行为

文献类型:期刊论文

作者武蕴忠 ; 丁青 ; 徐梅芳 ; 王渭源
刊名金属学报
出版日期1994
期号14
ISSN号0412-1961
中文摘要用Auger电子能谱研究铂薄膜中氧和碳杂质的行为.结果表明,氧和碳受它们在铂膜中扩散过程限制.在1000℃上、下两个温区,氧具有不同的扩散激活能,分别等于0.98和0.44eV;550─1000℃温度范围内,氧向膜外扩散,使铂膜净化;1000─1200℃温度范围内,氧向膜内扩散,使铂膜氧化.在所研究的整个温度范围内,碳的扩散激活能等于0.52ev,其扩散行为和氧相同,且随着氧含量的增减而增减.
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104463]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
武蕴忠,丁青,徐梅芳,等. 铂薄膜中氧和碳的行为[J]. 金属学报,1994(14).
APA 武蕴忠,丁青,徐梅芳,&王渭源.(1994).铂薄膜中氧和碳的行为.金属学报(14).
MLA 武蕴忠,et al."铂薄膜中氧和碳的行为".金属学报 .14(1994).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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