薄膜厚度对NiO/NiFe/Cu/NiFe自旋阀多层膜的磁阻效应的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吴丹丹 ; 李佐宜 ; 邱进军 ; 卢志红 |
| 刊名 | 磁记录材料
 |
| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 01 |
| 关键词 | K1 磁阻效应 矫顽力 交换耦合场 |
| ISSN号 | 1004-5155 |
| 其他题名 | T1 薄膜厚度对NiO/NiFe/Cu/NiFe自旋阀多层膜的磁阻效应的影响 |
| 中文摘要 | 用射频磁控溅射方法制备多层膜，研究了双层膜NiO／NiFe的矫顽力Hc和交换耦合场Hex与反铁磁层NiO、铁磁层NiFe厚度的关系。结果表明：NiO厚度为70nm时，Hex最大；Hc随NiO厚度增大而增大。当NiFe厚度增加时，Hex近似线性减小；而矫顽力则随NiFe厚度增大开始有缓慢增加，然后才减小。对于NiO（70nm）／NiFe（t1nm）／Cu（2．2nm）／NiFe（t2nm）自旋阀多层膜材料，研究了NiFe膜厚度对磁阻效应的影响。结果表明：被钉扎层NiFe的厚度为3nm时，自由层NiFe的厚度 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104472]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴丹丹,李佐宜,邱进军,等. 薄膜厚度对NiO/NiFe/Cu/NiFe自旋阀多层膜的磁阻效应的影响[J]. 磁记录材料,1999(01). |
| APA | 吴丹丹,李佐宜,邱进军,&卢志红.(1999).薄膜厚度对NiO/NiFe/Cu/NiFe自旋阀多层膜的磁阻效应的影响.磁记录材料(01). |
| MLA | 吴丹丹,et al."薄膜厚度对NiO/NiFe/Cu/NiFe自旋阀多层膜的磁阻效应的影响".磁记录材料 .01(1999). |
入库方式： OAI收割
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