不同工艺制备的铁电薄膜底电极Pt/Ti
文献类型：期刊论文
| 作者 | 宋志棠 ; 曾建明 ; 高剑侠 ; 张苗 ; 林成鲁 |
| 刊名 | 稀有金属材料与工程
 |
| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 05 |
| 关键词 | K1 Pt薄膜 织构 底电极 铁电薄膜 |
| ISSN号 | 1002-185X |
| 中文摘要 | 采用高真空电子束蒸发与直流溅射在SiO2／Si基底上制备Pt／Ti底电极，对Pt／Ti在不同热处理温度下的结构与形貌进行对比研究。结果表明：由于采用不同的制备工艺，Pt晶粒在成核与生长方式上有所不同，导致了Pt薄膜在结构与形貌的差异。高真空电子束蒸发的Pt薄膜以织构的方式生长，致密而规则的柱状晶粒决定了它在高温下的连续性和稳定性，为制备高质量的铁电薄膜与其性能的研究提供了条件。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104481]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋志棠,曾建明,高剑侠,等. 不同工艺制备的铁电薄膜底电极Pt/Ti[J]. 稀有金属材料与工程,1999(05). |
| APA | 宋志棠,曾建明,高剑侠,张苗,&林成鲁.(1999).不同工艺制备的铁电薄膜底电极Pt/Ti.稀有金属材料与工程(05). |
| MLA | 宋志棠,et al."不同工艺制备的铁电薄膜底电极Pt/Ti".稀有金属材料与工程 .05(1999). |
入库方式： OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。