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不同含氮量的a-SiN_x∶H的红外吸收及释氢谱

文献类型:期刊论文

作者王树林 ; 程如光 ; 何克伦 ; 祁明维 ; 蔡培新
刊名无机材料学报
出版日期1988
期号01
ISSN号1000-324X
中文摘要用红外及氢释放谱研究了由高频辉光放电分解不同配比的 SiH_4+NH_3+H_2混合气体而制备的a-SiN_x∶H 薄膜。结果发现:随着 N/Si 增加,膜的结构由类 a-Si∶H 形式逐渐过渡到类 a-SiN_(1.33)∶H 形式。当 N/Si<0.56,膜的结构以 a-Si∶H 相为主,当 N/Si>0.73时,a-SiN_(1.33)∶H 相起支配作用。在0.56
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104483]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
王树林,程如光,何克伦,等. 不同含氮量的a-SiN_x∶H的红外吸收及释氢谱[J]. 无机材料学报,1988(01).
APA 王树林,程如光,何克伦,祁明维,&蔡培新.(1988).不同含氮量的a-SiN_x∶H的红外吸收及释氢谱.无机材料学报(01).
MLA 王树林,et al."不同含氮量的a-SiN_x∶H的红外吸收及释氢谱".无机材料学报 .01(1988).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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