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掺Ge的p型Ga(1-x)Al_xAs缺陷能级

文献类型:期刊论文

作者王绍渤 ; 吴瑞娣
刊名仪表材料
出版日期1983
期号05
ISSN号1001-9731
中文摘要本文中,我们对液相外延生长的掺Ge-p型Ga_(1-x)Al_xAs(x<0.4)作了77K的光致发光测定。确定了与Ge有关的三个光谱峰,其能量分别是E_G=1.17x+1.48eV,1.46-1.47eV和~1.53eV。E_G是Ge受主能级;1.46-1.47eV是Ge与砷空位(V_(As))的络合物;~1.53eV是否Ge与铝空位(V_(Al))或镓空位(V_(Ga))形成络合物产生的受主能级有待继续研究。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104523]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
王绍渤,吴瑞娣. 掺Ge的p型Ga(1-x)Al_xAs缺陷能级[J]. 仪表材料,1983(05).
APA 王绍渤,&吴瑞娣.(1983).掺Ge的p型Ga(1-x)Al_xAs缺陷能级.仪表材料(05).
MLA 王绍渤,et al."掺Ge的p型Ga(1-x)Al_xAs缺陷能级".仪表材料 .05(1983).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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