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超高密度磁存储的展望

文献类型:期刊论文

作者马斌 ; 沈德芳 ; 狄国庆 ; 杨正 ; 魏福林
刊名功能材料与器件学报
出版日期2001
期号02
关键词K1 磁性存储 高密硬磁盘记录 垂直磁记录 磁光记录
ISSN号1007-4252
其他题名T1 超高密度磁存储的展望
中文摘要磁性存储是最常用的海量存储技术,其记录密度越来越高,发展也越来越快。本文通过对信息记录、读出和存储三个过程的分析,对比了硬磁盘记录、垂直磁记录和磁光记录的优缺点,指出了采用垂直记录模式、非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密记录的方向,光辅助磁记录是很有希望的记录技术。同时,还指出量子磁盘技术是未来极高密记录的方向。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104549]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
马斌,沈德芳,狄国庆,等. 超高密度磁存储的展望[J]. 功能材料与器件学报,2001(02).
APA 马斌,沈德芳,狄国庆,杨正,&魏福林.(2001).超高密度磁存储的展望.功能材料与器件学报(02).
MLA 马斌,et al."超高密度磁存储的展望".功能材料与器件学报 .02(2001).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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