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超高真空电子束蒸发合成晶态AlN薄膜的研究

文献类型:期刊论文

作者黄继颇 ; 王连卫 ; 高剑侠 ; 沈勤我 ; 林成鲁
刊名功能材料与器件学报
出版日期1998
期号04
ISSN号1007-4252
中文摘要用超高真空蒸发Al膜,结合氮化后处理工艺在Si(100)衬底上制备了AlN晶态薄膜。用X射线衍射(XRD)、傅立叶变换红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)等测试分析技术研究了薄膜的微结构特征。结果表明:经过10000C30分钟氮化处理后,能形成具有(002)择优取向的AlN薄膜。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104551]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
黄继颇,王连卫,高剑侠,等. 超高真空电子束蒸发合成晶态AlN薄膜的研究[J]. 功能材料与器件学报,1998(04).
APA 黄继颇,王连卫,高剑侠,沈勤我,&林成鲁.(1998).超高真空电子束蒸发合成晶态AlN薄膜的研究.功能材料与器件学报(04).
MLA 黄继颇,et al."超高真空电子束蒸发合成晶态AlN薄膜的研究".功能材料与器件学报 .04(1998).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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