耐反应离子刻蚀的紫外激光光致抗蚀剂的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 金桂林 ; 金晓英 ; 施善定 ; 蔡根寿 ; 黄均文 |
| 刊名 | 激光杂志
 |
| 出版日期 | 1994 |
| 期号 | 02 |
| ISSN号 | 02532743 |
| 中文摘要 | 以芳香族双迭氮基化合物为交联剂，苯氧基二苯甲酮为光敏剂，聚甲基丙烯酸甲酯（ＰＭＭＡ）为基质树脂，合成了负型激光光致抗蚀剂。该体系能够在氮分子激光辐照下发生灵敏的光致交联反应，所生成的致密薄膜可以耐四氟化碳等离子体的反应离子刻蚀（ＲＩＥ）。用付里叶变换红外光谱法与紫外光谱法研究了激光光致交联反应以及反应离子刻蚀的动力学过程。讨论了影响反应速率以及刻蚀选择比的诸因素。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104617]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 金桂林,金晓英,施善定,等. 耐反应离子刻蚀的紫外激光光致抗蚀剂的研究[J]. 激光杂志,1994(02). |
| APA | 金桂林,金晓英,施善定,蔡根寿,&黄均文.(1994).耐反应离子刻蚀的紫外激光光致抗蚀剂的研究.激光杂志(02). |
| MLA | 金桂林,et al."耐反应离子刻蚀的紫外激光光致抗蚀剂的研究".激光杂志 .02(1994). |
入库方式： OAI收割
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