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旁栅阈值电压与旁栅距的关系研究

文献类型:期刊论文

作者丁勇 ; 毛友德 ; 夏冠群 ; 赵建龙
刊名固体电子学研究与进展
出版日期2001
期号03
关键词K1 旁栅效应 旁栅距 碰撞电离
ISSN号1000-3819
其他题名T1 旁栅阈值电压与旁栅距的关系研究
中文摘要旁栅效应是制约 Ga As器件及电路性能的有害寄生效应。文中理论推导并实验研究了旁栅阈值电压 Vth SG与旁栅距 LSG的关系 ,发现 Vth SG与 LSG成正比关系。这一结论对数字电路设计具有重要指导意义 ,在设计电路版图时可根据电路的逻辑电平摆幅 VSW选择器件之间的最小距离 L
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104639]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
丁勇,毛友德,夏冠群,等. 旁栅阈值电压与旁栅距的关系研究[J]. 固体电子学研究与进展,2001(03).
APA 丁勇,毛友德,夏冠群,&赵建龙.(2001).旁栅阈值电压与旁栅距的关系研究.固体电子学研究与进展(03).
MLA 丁勇,et al."旁栅阈值电压与旁栅距的关系研究".固体电子学研究与进展 .03(2001).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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