偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究
文献类型:期刊论文
作者 | 贺连星 ; 李承恩 ; 陈廷国 ; 刘卫 ; 朱震刚 ; 水嘉鹏 |
刊名 | 无机材料学报
![]() |
出版日期 | 2000 |
期号 | 05 |
关键词 | K1 内耗 偏铌酸铅陶瓷 畴壁 氧空位 |
ISSN号 | 1000-324X |
其他题名 | T1 偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究 |
中文摘要 | 用低频倒置扭摆对改性偏铌酸铅铁电陶瓷的内耗进行了研究.在新加工的样品中发现了六个内耗峰,分别位于70℃(P1峰)、 90℃(P2峰)、200℃(P3峰)、260℃(P4峰)、430℃(P5峰)和510℃(P6峰)处.对引起P3、P1、P2和P4峰的物理机制进行了详细探讨.分析结果表明,P3峰的本质是一定化的 Debye弛豫内耗峰。相应的激活能和指前因子分别为1.014V和 2.4×10-14s.它源于氧空位与畴壁的相互作用. P1、 P2和 P4峰与试样的切割加工密切相关,可归结为点缺陷与位错的交互作用. |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-29 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104648] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 贺连星,李承恩,陈廷国,等. 偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究[J]. 无机材料学报,2000(05). |
APA | 贺连星,李承恩,陈廷国,刘卫,朱震刚,&水嘉鹏.(2000).偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究.无机材料学报(05). |
MLA | 贺连星,et al."偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究".无机材料学报 .05(2000). |
入库方式: OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。