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偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究

文献类型:期刊论文

作者贺连星 ; 李承恩 ; 陈廷国 ; 刘卫 ; 朱震刚 ; 水嘉鹏
刊名无机材料学报
出版日期2000
期号05
关键词K1 内耗 偏铌酸铅陶瓷 畴壁 氧空位
ISSN号1000-324X
其他题名T1 偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究
中文摘要用低频倒置扭摆对改性偏铌酸铅铁电陶瓷的内耗进行了研究.在新加工的样品中发现了六个内耗峰,分别位于70℃(P1峰)、 90℃(P2峰)、200℃(P3峰)、260℃(P4峰)、430℃(P5峰)和510℃(P6峰)处.对引起P3、P1、P2和P4峰的物理机制进行了详细探讨.分析结果表明,P3峰的本质是一定化的 Debye弛豫内耗峰。相应的激活能和指前因子分别为1.014V和 2.4×10-14s.它源于氧空位与畴壁的相互作用. P1、 P2和 P4峰与试样的切割加工密切相关,可归结为点缺陷与位错的交互作用.
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104648]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
贺连星,李承恩,陈廷国,等. 偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究[J]. 无机材料学报,2000(05).
APA 贺连星,李承恩,陈廷国,刘卫,朱震刚,&水嘉鹏.(2000).偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究.无机材料学报(05).
MLA 贺连星,et al."偏铌酸铅陶瓷低频内耗的研究".无机材料学报 .05(2000).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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