驱动光束不均匀性研究中的硅平面薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 周斌 ; 韩明 ; 陆卫昌 ; 徐平 ; 赖珍荃 ; 沈军 ; 邓忠生 ; 吴广明 ; 张勤远 ; 陈玲燕 ; 王珏 |
| 刊名 | 强激光与粒子束
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| 出版日期 | 2000 |
| 期号 | 02 |
| 关键词 | K1 Si平面薄膜 瑞利-泰勒不稳定性 ICF分解实验 驱动光束不均匀 |
| ISSN号 | 1001-4322 |
| 中文摘要 | 介绍以氧化、扩散、光刻等现代半导体技术结合化学腐蚀工艺实现对 Si片的定向自截止腐蚀 ,制备获得用于研究驱动光束不均匀性的自支撑 Si平面薄膜的工艺。通过台阶仪测量厚度在 3～ 4 μm的 Si平面薄膜 ,在扫描范围为 1 0 0 0 μm时 ,它的表面粗糙度为几十纳米 ;SEM测量表明 ,Si薄膜表面颗粒度在纳米量级 ;探讨了采用控制扩散、腐蚀参数和表面修饰处理来降低 Si膜表面粗糙度的方法。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104702]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周斌,韩明,陆卫昌,等. 驱动光束不均匀性研究中的硅平面薄膜[J]. 强激光与粒子束,2000(02). |
| APA | 周斌.,韩明.,陆卫昌.,徐平.,赖珍荃.,...&王珏.(2000).驱动光束不均匀性研究中的硅平面薄膜.强激光与粒子束(02). |
| MLA | 周斌,et al."驱动光束不均匀性研究中的硅平面薄膜".强激光与粒子束 .02(2000). |
入库方式： OAI收割
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