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三氯氢硅歧化的研究

文献类型:期刊论文

作者莫金玑 ; 管丽民 ; 汪光裕
刊名稀有金属
出版日期1992
期号04
ISSN号0258-7076
中文摘要<正> 目前,SiH_2Cl_2作为优质源材料在外延工艺中的应用日益广泛,可用于沉积多晶硅、无定形硅和氮化硅等,是研制集成电路的一种重要材料。很多研究工作者论述了以含氮原子功能团的非可溶性固体催化剂进行SiHCl_3岐化制取SiH_2Cl_2工艺。本文报导实验室条件下进行SiHCl_3岐化研究的若干结果。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104798]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
莫金玑,管丽民,汪光裕. 三氯氢硅歧化的研究[J]. 稀有金属,1992(04).
APA 莫金玑,管丽民,&汪光裕.(1992).三氯氢硅歧化的研究.稀有金属(04).
MLA 莫金玑,et al."三氯氢硅歧化的研究".稀有金属 .04(1992).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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