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砷化镓材料中EPR“As_(Ga)”的退火行为

文献类型:期刊论文

作者汪光裕 ; 邹元燨 ; S.Benakki ; E.Christoffel ; A.Goltzene ; B.Meyer ; C.Schwab
刊名半导体学报
出版日期1990
期号03
ISSN号0253-4177
中文摘要本文比较了中子辐照。压缩变形和原生LEC砷化镓等三种不同来源样品的EPR“As_(Ga)”的Hamiltonian参数。并系统地研究了EPR“As_(Ga)”的浓度和低温光猝灭行为随退火温度的变化,从而进一步验证了EPR“As_(Ga)”的本性,即除孤立As_(Ga)反位原子外,还可能包括As_(Ga)的一些空位络合物。这些不同本性的EPR“As_(Ga)”缺陷及其它有关的缺陷在样品热处理过程中可能相互转化。按照物理化学中Le Chatlier原理,缺陷的原始浓度和晶体内部应变能似应是引起这些转化反应的重
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104814]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
汪光裕,邹元燨,S.Benakki,等. 砷化镓材料中EPR“As_(Ga)”的退火行为[J]. 半导体学报,1990(03).
APA 汪光裕.,邹元燨.,S.Benakki.,E.Christoffel.,A.Goltzene.,...&C.Schwab.(1990).砷化镓材料中EPR“As_(Ga)”的退火行为.半导体学报(03).
MLA 汪光裕,et al."砷化镓材料中EPR“As_(Ga)”的退火行为".半导体学报 .03(1990).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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