砷化镓注锡的红宝石脉冲激光退火
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吴恒显 ; 刘立人 ; 赵新安 ; 忻尚衡 |
| 刊名 | 激光
 |
| 出版日期 | 1979 |
| 期号 | 11 |
| ISSN号 | 0258-7025 |
| 中文摘要 | <正> 一、引言 半导体经离子注入后,需经热退火使注入过程引起的晶格损伤得到恢复,同时使注入杂质活化,才能获得良好的电特性。但是热退火有许多的局限性,如高剂量注入所产生的晶格损伤得不到充分恢复,衬底材料的少子寿命与扩散长度会严重下降,对化学稳定性较差的化合物半导体,还会引起分解与 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104831]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴恒显,刘立人,赵新安,等. 砷化镓注锡的红宝石脉冲激光退火[J]. 激光,1979(11). |
| APA | 吴恒显,刘立人,赵新安,&忻尚衡.(1979).砷化镓注锡的红宝石脉冲激光退火.激光(11). |
| MLA | 吴恒显,et al."砷化镓注锡的红宝石脉冲激光退火".激光 .11(1979). |
入库方式： OAI收割
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