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提高FEA电子发射可靠性和均匀性的几种结构

文献类型:期刊论文

作者范忠 ; 李琼 ; 徐静芳 ; 郭方敏 ; 茅东升
刊名微细加工技术
出版日期2002
期号01
关键词K1 FEA 可靠性 均匀性
ISSN号1003-8213
中文摘要首先介绍了稳定FEA电子发射均匀性和可靠性的几种结构 ,然后提出了以离子注入和干法刻蚀技术 ,在常规电阻率P型衬底上制成具有串联电阻负反馈特性的单片硅FEA。这些设计和工艺可供研究人员在设计具体FEA电子源的不同应用领域 ,如平版显示器、微波真空器件、微真空传感器时作参考
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104943]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
范忠,李琼,徐静芳,等. 提高FEA电子发射可靠性和均匀性的几种结构[J]. 微细加工技术,2002(01).
APA 范忠,李琼,徐静芳,郭方敏,&茅东升.(2002).提高FEA电子发射可靠性和均匀性的几种结构.微细加工技术(01).
MLA 范忠,et al."提高FEA电子发射可靠性和均匀性的几种结构".微细加工技术 .01(2002).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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