投影光刻中相位光栅对准信号计算的新模型
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈敏麒 |
| 刊名 | 电子学报
 |
| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 07 |
| 关键词 | K1 半导体光刻 相位光栅 多层薄膜 Fourier光学 |
| ISSN号 | 0372-2112 |
| 中文摘要 | 对分步重复投影半导体光刻机相位光栅对准信号作了详细的分析，提出了更加合理精确的计算模型，并与其他论文中的实验数据作了初步比较，模型与实验更加接近．本文所提供的方法也适用于对有减反膜的光刻工艺对准信号的分析． |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/104976]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈敏麒. 投影光刻中相位光栅对准信号计算的新模型[J]. 电子学报,1999(07). |
| APA | 陈敏麒.(1999).投影光刻中相位光栅对准信号计算的新模型.电子学报(07). |
| MLA | 陈敏麒."投影光刻中相位光栅对准信号计算的新模型".电子学报 .07(1999). |
入库方式： OAI收割
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