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外延迁移技术制作光电子单片集成Si的GaAs/GaAlAs DH LED

文献类型:期刊论文

作者肖德元 ; 郭康瑾 ; 李爱珍 ; 徐少华 ; 朱黎明
刊名红外与毫米波学报
出版日期1992
期号05
ISSN号1001-9014
中文摘要描述了采用外延迁移技术制作光电子集成电路的Si衬底砷化镓双异质结发光二极管的工艺过程及实验结果.发光器件是在外延迁移后流片制作的,克服了光子器件与电子器件的对准问题,可与电子器件大规模集成.
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105004]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
肖德元,郭康瑾,李爱珍,等. 外延迁移技术制作光电子单片集成Si的GaAs/GaAlAs DH LED[J]. 红外与毫米波学报,1992(05).
APA 肖德元,郭康瑾,李爱珍,徐少华,&朱黎明.(1992).外延迁移技术制作光电子单片集成Si的GaAs/GaAlAs DH LED.红外与毫米波学报(05).
MLA 肖德元,et al."外延迁移技术制作光电子单片集成Si的GaAs/GaAlAs DH LED".红外与毫米波学报 .05(1992).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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