斜蒸镀Ni-Co薄膜磁性能的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 沈德芳 ; 姜兰英 ; 何德耀 ; 封敬璋 |
| 刊名 | 磁记录材料
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| 出版日期 | 1985 |
| 期号 | 01 |
| ISSN号 | 1009-5624 |
| 中文摘要 | <正> 处在信息时代的今天,要求磁记录介质有更高的记录密度。连续薄膜介质因具备高的矫顽力和薄层化的条件,对高记录密度十分有利。该研究领域十分活跃,斜蒸镀Ni-Co薄膜是其中一例,并已用于微型盒式带。目前试图在录象带中获得应用。文献中报道,在有少量O_2 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105115]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 沈德芳,姜兰英,何德耀,等. 斜蒸镀Ni-Co薄膜磁性能的研究[J]. 磁记录材料,1985(01). |
| APA | 沈德芳,姜兰英,何德耀,&封敬璋.(1985).斜蒸镀Ni-Co薄膜磁性能的研究.磁记录材料(01). |
| MLA | 沈德芳,et al."斜蒸镀Ni-Co薄膜磁性能的研究".磁记录材料 .01(1985). |
入库方式： OAI收割
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