氧化钴和四氧化三铁双层薄膜氧化后矫顽力的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 沈德芳 ; 周承捷 ; 莫中义 ; 夏诚忠 |
| 刊名 | 磁记录材料
 |
| 出版日期 | 1985 |
| 期号 | 01 |
| ISSN号 | 1009-5624 |
| 中文摘要 | <正> 自1974年出现高记录密度材料Co-γ-Fe_2O_3和CoFe-γ-Fe_2O_3磁粉后,有不少文章对其矫顽力提高的机理进行了讨论。为进一步研究其矫顽力增加的原因,本文以薄膜为对象,讨论Co/Fe_2O_3双层薄膜经氧化处理后形成CoxFe_3-x |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105181]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 沈德芳,周承捷,莫中义,等. 氧化钴和四氧化三铁双层薄膜氧化后矫顽力的研究[J]. 磁记录材料,1985(01). |
| APA | 沈德芳,周承捷,莫中义,&夏诚忠.(1985).氧化钴和四氧化三铁双层薄膜氧化后矫顽力的研究.磁记录材料(01). |
| MLA | 沈德芳,et al."氧化钴和四氧化三铁双层薄膜氧化后矫顽力的研究".磁记录材料 .01(1985). |
入库方式： OAI收割
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