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用低温光致发光研究Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料的杂质和缺陷

文献类型:期刊论文

作者王绍渤 ; 吴瑞娣 ; 薛忠发
刊名应用科学学报
出版日期1984
期号03
ISSN号0255-8297
中文摘要我们对N-GaAs和N-InP单晶及外延层在4.2K和77K下测定了光致发光谱,并用C-V法测定了电学参数,确定了未掺GaAs中的受主杂质主要是C和Si.通过室温离子注入Si和退火处理,证明了GaAs中1.403eV光谱峰与Si及砷空位V_(As)有关,结合化学及离子微探针分析结果,对未掺InP晶体光谱曲线研究指出,~1.38eV光谱峰是C受主引起的,而1.08和~1.2eV峰分别与磷空位V_p及铟空位V_(In)有关.
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105328]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
王绍渤,吴瑞娣,薛忠发. 用低温光致发光研究Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料的杂质和缺陷[J]. 应用科学学报,1984(03).
APA 王绍渤,吴瑞娣,&薛忠发.(1984).用低温光致发光研究Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料的杂质和缺陷.应用科学学报(03).
MLA 王绍渤,et al."用低温光致发光研究Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料的杂质和缺陷".应用科学学报 .03(1984).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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