用作金刚石微电子和微机械器件的若干关键技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王渭源 ; 王效东 ; 毛敏耀 ; 杨艺榕 ; 任琮欣 ; 解健芳 |
| 刊名 | 科学通报
 |
| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 04 |
| ISSN号 | 0023-074X |
| 中文摘要 | 针对金刚石薄膜用于微电子器件和微机械器件的共性关键技术问题 ,总结了近年来这些方面的研究成果 ,包括 :用交流 直流负偏压微波等离子化学气相沉积 (MPCVD)在绝缘SiO2衬底上实现金刚石高密度成核 ,高成核选择比的金刚石选择生长技术 ,铝掩模氧反应离子束刻蚀金刚石薄膜的图形化技术 ,以及与金刚石生长工艺兼容的牺牲层、绝缘层技术等 |
| 公开日期 | 2012-03-29 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105440]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文（冶金所） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王渭源,王效东,毛敏耀,等. 用作金刚石微电子和微机械器件的若干关键技术[J]. 科学通报,1999(04). |
| APA | 王渭源,王效东,毛敏耀,杨艺榕,任琮欣,&解健芳.(1999).用作金刚石微电子和微机械器件的若干关键技术.科学通报(04). |
| MLA | 王渭源,et al."用作金刚石微电子和微机械器件的若干关键技术".科学通报 .04(1999). |
入库方式： OAI收割
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