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真空磁过滤弧沉积碳氮薄膜的研究

文献类型:期刊论文

作者陈智颖 ; 俞跃辉 ; 赵建平 ; 王曦 ; 周祖尧 ; 杨石奇 ; 柳襄怀 ; 施天生
刊名功能材料与器件学报
出版日期1997
期号01
ISSN号1007-4252
中文摘要本文采用真空磁过滤弧沉积技术,在Si(111)、石英及Ti/C衬底上制备得到非晶碳氮(CNx)薄膜。采用卢瑟福背散射分析对薄膜的面密度及N含量进行定量计算。用紫外-可见透射光谱与红外反射光谱研究了薄膜的光学性能。结果表明:随着薄膜中氮含量的增加,碳氮薄膜的光学禁带宽度减小,红外反射率增加。另外,就不同氮气分压对薄膜结构的影响进行了研究。
语种中文
公开日期2012-03-29
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105498]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
陈智颖,俞跃辉,赵建平,等. 真空磁过滤弧沉积碳氮薄膜的研究[J]. 功能材料与器件学报,1997(01).
APA 陈智颖.,俞跃辉.,赵建平.,王曦.,周祖尧.,...&施天生.(1997).真空磁过滤弧沉积碳氮薄膜的研究.功能材料与器件学报(01).
MLA 陈智颖,et al."真空磁过滤弧沉积碳氮薄膜的研究".功能材料与器件学报 .01(1997).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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